你知道国产DUV光刻机取得重大突破了吗？

Everest

9月14日消息，工业和信息化部在官网公布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。

这个目录公布了氟化氩光刻机的核心技术指标，晶圆直径300mm，照明波长193nm，分辨率≤65nm，刻机套刻≤8nm。这表明国产DUV光刻机已取得重大突破，国外对中国高端集成电路产业卡脖子的领域越来越少了。

此外，《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中还有氟化氪光刻机，晶圆直径300mm，照明波长248nm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。

除了光刻机，工信部在印发的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，还有多类集成电路生产装备，包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特种金属膜层刻蚀机、化学气相沉积装备、物理气相沉积装备、化学机械抛光机、激光退火装备、光学线宽量测装备。这些产品都会极大推动中国集成电路产业的发展，意义重大。为中国科学家和工程师点赞👍。

‌首台（套）重大技术装备推广应用指导目录‌是由‌中华人民共和国‌工业和信息化部制订的文件，旨在促进首台（套）重大技术装备的创新发展和推广应用。该目录根据重大技术装备的发展情况每2-3年动态调整一次，体现了政府对重大技术装备发展的引导。

制订《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》，体现了政府对重大技术装备发展的引导。《目录》中所列装备的选择，一是符合国家战略性新兴产业培育发展及传统产业转型升级的需要，是当前国民经济建设和国家重大工程急需的装备；二是节能、节材、环保效果突出，经济效益和社会效益显著；三是首次进入市场推广阶段的重大技术装备产品。