<p class="ql-block">近日,清华大学正式宣布,其物工系在研究新型加速器光源“稳态微聚束”的过程中,发现一种新的粒子加速光源,波长覆盖太赫兹到极紫外波段,且这种光源的最直接应用就是EUV光刻机。光刻机是利用光源能量、形状控制手段,将光束透过刻着集成线路图的掩模,经过光学补差后,将线路图印在硅片上。其本质就是对特定波长的光源进行高精度利用。光刻机所使用的光源有激光、紫外光、深紫外光和极紫外光,而EUV所使用的就是极紫外光,因为他的波段足够短,具有更好的成像效果,也是制造高端芯片必要的光源。目前,仅ASML公司掌握了极紫外光,这也是他能垄断EUV光刻机市场的最重要原因。随着我国对EUV光刻机的深度研究,ASML公司对极紫外光的技术垄断或将成为历史。</p>